引言
最近,Lighting Arctic 原位冷凍熱電樣品桿上市,將原位熱電技術(shù)推向新的高度,使其在能源轉(zhuǎn)換、材料研究等領(lǐng)域發(fā)揮更大作用。
細心的讀者朋友可能已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了,從第一款產(chǎn)品 Wildfire 原位加熱樣品桿開始,到最近的 Lightning Arctic 原位冷凍熱電樣品桿,變溫過程中的穩(wěn)定性始終是 DENS 系列產(chǎn)品的一大特點。事實上也確實如此,得益于 MEMS (微機電系統(tǒng)) 技術(shù)和創(chuàng)新的設(shè)計理念,DENS 原位樣品桿優(yōu)秀的溫控性和穩(wěn)定性經(jīng)過了時間的考驗,為原位實驗技術(shù)的發(fā)展提供了保障,也得到了許多用戶的認(rèn)可。下面,我們將以 Wildfire 原位加熱樣品桿為例,從控溫精準(zhǔn)、圖像穩(wěn)定、高溫 EDS (能譜)分析、加熱均勻這四個方面,向大家更全面地介紹 透射電鏡原位樣品桿在加熱功能上所具有的特性。
原位樣品桿芯片加熱原理
在詳細介紹之前,先和大家介紹一下 Wildfire 原位樣品桿加熱芯片的加熱原理。芯片采用電阻式加熱法為目標(biāo)區(qū)域提供熱量,以達到所需溫度,即通過將電能轉(zhuǎn)換成熱能來加熱物體,這和日常生活中電熱毯、電熱爐(圖 1)的工作原理是一致的。只不過 Wildfire 原位加熱樣品桿是對 MEMS 芯片上的微米級區(qū)域進行加熱,它的功率要小很多,在毫瓦量級,僅相當(dāng)于電熱爐的百萬分之一!
圖 1:電熱爐的加熱線圈(上)和 MEMS 芯片上的加熱線圈(下)
原位樣品桿加熱特性
特性 1:控溫精準(zhǔn)
現(xiàn)在,大家對于原位樣品桿的加熱原理有了一定了解。那自然會好奇,原位樣品桿到底是如何使加熱區(qū)達到設(shè)定溫度的呢?
回想高中物理知識,大家或許還記得金屬的電阻隨著溫度的升高而增大。實際上,金屬電阻和溫度成線性關(guān)系(圖 2),而直線斜率就是電阻溫度系數(shù) (Temperature Coefficient of Resistance, 簡稱 TCR)。知道了 TCR 和某一溫度下的電阻,我們就可以確定溫度與電阻的對應(yīng)關(guān)系。在這種情況下,溫度數(shù)值和電阻數(shù)值一一互相對應(yīng)。知道了電阻,就可以計算出溫度,反之亦然。
圖 2:電阻和溫度呈線性關(guān)系
那我們是如何測量加熱區(qū)域的電阻呢,其實還是我們在物理課堂上所學(xué)的電阻計算公式:
電阻=電壓/電流
只不過,Wildfire 加熱芯片對于電阻的測量采用了一種更為準(zhǔn)確的方式——四探針法(圖3左)。相較于傳統(tǒng)的測量方法(圖 3 右),四探針法因為就近額外設(shè)置了兩個觸點,可以更直接地測量線圈(Rheater)的電壓,避免引入回路中接觸電阻(Rcontact)、導(dǎo)線電阻(Rcable、Rwires)等的電壓。由此所測得的電壓才是真正的線圈電壓,從而計算出來的電阻也就是準(zhǔn)確的線圈阻值。
圖 3:四探針法測電阻(左)和傳統(tǒng)測量方法(右)
圖 4:Wildfire 原位樣品桿加熱芯片,采用四電極設(shè)計
每一組加熱芯片在出廠時,都經(jīng)過了校準(zhǔn)測試,并計算出了獨立的 TCR 值和R0 (室溫時的線圈電阻)。知道了 TCR 和 R0,就可以確定微線圈的電阻-溫度關(guān)系,再加上用四探針法所準(zhǔn)確測量的電阻值,我們就可以知道加熱線圈當(dāng)前的準(zhǔn)確溫度。
當(dāng)我們把樣品固定在芯片上開始實驗時,微線圈通過上述方式對樣品進行加熱。在升溫過程中,線圈和樣品發(fā)生熱量交換。樣品受熱時可能會由于結(jié)構(gòu)、成分變化,給加熱過程帶來動態(tài)干擾。為了進一步確保溫度的準(zhǔn)確和穩(wěn)定,我們引入了閉環(huán)反饋機制(Closed Loop Feedback Mechanism, 圖 5),用來實時響應(yīng)溫度波動,瞬間做出功率調(diào)整,最終可以達到 0.005 ºC 的溫度穩(wěn)定性。
圖 5:四電極(二加熱&二感知),加熱線圈(左)和閉環(huán)反饋機制(右)
此外,這種機制也有助于實現(xiàn)快速且準(zhǔn)確的變溫,為探究變溫過程中的結(jié)構(gòu)變化帶來了極大便利(圖 6)。
圖 6:在 300ºC 和 400ºC 之間往復(fù)變溫,Cu3Au 在簡立方相(SC)和面心立方相(FCC)之間發(fā)生可逆相變(相變點 390ºC)。借助選區(qū)電子衍射(SAED)可以直接觀察到兩種相的反復(fù)切換。
特性 2:穩(wěn)定的高溫圖像
目前市面上主流的原位透射電鏡加熱方案都采用芯片式設(shè)計,為了避免加熱器與樣品接觸發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或加熱電流流經(jīng)樣品,一般都會在加熱器上包覆一層超薄氮化硅(SiN)薄膜用以和樣品隔離。溫度改變時,SiN 薄膜會發(fā)生鼓包變形,薄膜上承載的樣品也會跟著發(fā)生位移,焦距會變化,進而圖像模糊,甚至樣品可能會漂出視野。
得益于獨(du)家專(zhuan)利,DENSsolutions 優(yōu)化設(shè)計的加熱芯片在室溫至 500 ºC 區(qū)間內(nèi)的焦距變化不超過 300 nm。在此范圍內(nèi),用戶只需再次稍微調(diào)焦即可恢復(fù)圖像清晰度。實際上,目前采用最新設(shè)計的新款芯片要比它的上一代產(chǎn)品的鼓包變形要小得多(圖 7),在 500 ºC 以內(nèi)變形可以忽略不計,即使到了 1300 ºC 形變量也不到 7 μm。
圖 7:采用了最新設(shè)計的芯片(左)比上一代芯片(右)的受熱鼓包形變更小。
相反,如果是未經(jīng)優(yōu)化設(shè)計的普通芯片,才剛加熱到 200 ºC 時,焦距變化就遠大于 200 nm,用戶就不得不移動樣品臺的物理 Z 軸來補償該變化。這種操作比較耗時,很可能會錯過重要的反應(yīng)過程。如果不移動、只調(diào)焦的話,則可能會帶來像差,進而影響圖像質(zhì)量。
鼓包不僅會帶來 Z 方向上的焦距變化,也會引起 X、Y 方向上的圖像漂移。原位實驗研究某一顆?;蚰骋晃^(qū)時,需要在整個溫度變化過程中都可以觀察到目標(biāo)區(qū)域。漂移較小所帶來的好處就是——即使升溫再高,樣品始終在視野范圍內(nèi),還可以被觀察到(圖 8)。否則,升到某一溫度時顆粒就可能漂出視野,不移動樣品臺就無法找到樣品。如果漂移再多、再快的話,即使操作樣品臺也永遠無法找到這個樣品了。
圖 8:即使升溫至 1300 ºC 后,所關(guān)注的納米顆粒依舊在視野中。
Wildfire 原位加熱桿加熱樣品時,漂移率小于 0.5 nm/min,升溫至 350 ºC 時漂移小于 20 nm (視頻 1),升溫至 1000 ºC 時漂移小于 200 nm。
特性 3:高溫 EDS 分析
進行 EDS (能量分散譜,即能譜)分析時,探測器采集來自樣品的特征 X 射線,轉(zhuǎn)換成電壓信號進行分通道計數(shù),根據(jù)不同能量 X 射線對應(yīng)的計數(shù)量,可以得出各元素的百分含量。從原理上講,其他電磁波諸如紅外線、可見光、紫外線也可以激發(fā) EDS 探測器,帶來計數(shù)量,但 EDS 不能用這些計數(shù)進行有效分析。
線圈溫度上升時會發(fā)光發(fā)熱,也就是會產(chǎn)生可見光和紅外線。這些額外的電磁波會被 EDS 探測器接收,產(chǎn)生大量無效計數(shù),甚至淹沒關(guān)鍵的特征 X 射線計數(shù),使計數(shù)器達到飽和上限,導(dǎo)致無法進行有效分析。要想在加熱的同時實現(xiàn)可靠的高溫 EDS 分析,就要盡量減少熱輻射的產(chǎn)生。
圖 9:EDS 探測器構(gòu)造,可以看到晶體后方連著傳感器和冷阱,以保證低溫。
得益于 MEMS 設(shè)計,Wildfire 芯片僅需要毫瓦級的功率即可對微區(qū)進行精確可靠的溫度控制。如此小的加熱功率,它所產(chǎn)生的紅外輻射自然也是少之又少的。因此,即便在更高的溫度下,依舊可以獲得可靠的 EDS 結(jié)果。
圖 10:高溫下 Au/Pd 納米顆粒的 EDS 面掃結(jié)果
特性 4:溫度均勻一致
前文我們提到,微線圈的加熱原理是把電能轉(zhuǎn)換成熱能。這種焦耳生熱的效率與電阻有關(guān)——電阻越大產(chǎn)生的熱量就越多。下圖中我們可以看到,加熱線圈外圍導(dǎo)線明顯較細,而內(nèi)圈導(dǎo)線較寬。這樣外圍線圈產(chǎn)生的熱量較多,內(nèi)圈產(chǎn)生的熱量較少,一定程度上可以抵消由中心向外圍的溫度梯度。如果是導(dǎo)線粗細一致,產(chǎn)生熱量相同,毫無疑問中心溫度會更高,自然就會有由內(nèi)向外的溫度由高到低的梯度。采用這樣的設(shè)計,加熱區(qū)域的溫度均勻性也就無法得到保證。
圖 11:Wildfire 芯片加熱區(qū)的線圈排布和溫度均勻性分布
通過這種線圈設(shè)計方式,全區(qū)域溫度一致性優(yōu)于 98%。甚至,在最中心的兩個圓形窗口,溫度一致性高達 99.5%!